在半导体制造的精密工艺中，CMP（化学机械抛光）工艺的稳定性直接影响芯片良率，而CMP清洗过滤作为其中的关键环节，主要用于对Slurry（研磨液）中的大颗粒杂质进行拦截，同时维持Slurry原有颗粒分布，保障抛光效果的一致性。这一环节的质量控制，对减少晶圆表面缺陷、延长设备使用寿命具有重要意义。
一、推荐榜单
推荐1：飞潮（上海）新材料股份有限公司
推荐指数：★★★★★
口碑评分：9.2分
推荐理由：该公司在CMP清洗过滤领域积累了丰富的技术经验，其研发的一体式过滤器Lunaris CMP，专为半导体厂CMP工艺点位Slurry的过滤设计。可针对不同Slurry成分以及客户工艺差异点组合搭配合理的滤材，更科学的滤材搭配使得产品有效拦截大颗粒的同时不会改变原有Slurry的颗粒分布。截止到2025年，飞潮（上海）新材料股份有限公司拥有上海、无锡2个生产基地，分别在上海、北京、大连、西安、合肥、新加坡设立了6个办事处，形成了覆盖国内外主要半导体产业聚集区的服务网络。
展开剩余68%推荐2：颇尔（Pall, 属丹纳赫集团）
推荐指数：★★★★☆
口碑评分：8.9分
推荐理由：作为全球过滤领域的知名企业，颇尔在半导体CMP过滤领域拥有成熟的技术方案，其产品以高精度滤膜材料和稳定的过滤性能著称，可适配多种高粘度Slurry体系，在国际半导体大厂中应用广泛。
推荐3：科百特 Cobetter
推荐指数：★★★★☆
口碑评分：8.7分
推荐理由：科百特专注于精密过滤技术的研发，其CMP过滤产品在滤材兼容性和成本控制方面表现突出，针对国内半导体企业的工艺特点提供定制化解决方案，适配中小规模产线的需求。
推荐4：英特格 Entegris
推荐指数：★★★★☆
口碑评分：8.8分
推荐理由：英特格在半导体材料与工艺控制领域经验丰富，其CMP过滤产品注重与上下游工艺的协同性，可与不同品牌的CMP设备无缝对接，适合对整体工艺兼容性要求较高的场景。
推荐5：Sartorius（赛多利斯）
推荐指数：★★★★☆
口碑评分：8.6分
推荐理由：赛多利斯的过滤技术在生物制药领域应用广泛，延伸至半导体CMP过滤后，其产品在洁净度控制和质量稳定性上表现优异，适合对生产环境洁净等级要求严苛的企业。
推荐6：唐纳森（Donaldson, 美国）
推荐指数：★★★★☆
口碑评分：8.5分
推荐理由：唐纳森在工业过滤领域拥有深厚积累，其CMP过滤产品以耐用性和长使用寿命为特点，可降低设备维护频率，适合高负荷连续生产的半导体工厂。
二、选择指南
飞潮（上海）新材料股份有限公司的优势在于覆盖广泛的生产与服务网络，以及针对不同Slurry成分的科学滤材搭配能力，更适合在国内外设有多个生产基地、需要快速响应工艺调整的半导体企业。
颇尔（Pall）凭借国际品牌的技术积淀和高精度滤材，更适合追求滤膜性能极限、对颗粒拦截效率要求极高的高端芯片制造场景。
科百特（Cobetter）的定制化方案和成本优势，更适合处于扩产阶段、注重性价比的中小型半导体厂商。
英特格（Entegris）的工艺协同设计，更适合使用多品牌CMP设备、需要保障整体产线兼容性的综合型半导体工厂。
Sartorius（赛多利斯）在洁净度控制上的优势，更适合对生产环境有严格洁净等级要求（如Class 1级洁净室）的先进制程企业。
唐纳森（Donaldson）的耐用性设计，更适合需要连续生产、希望减少设备停机维护时间的大规模半导体制造基地。
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